12月25日，中國(guó)政府采購(gòu)網(wǎng)公示，上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司（簡(jiǎn)稱“上海微電子、SMEE”）中標(biāo) zycgr22011903采購(gòu)步進(jìn)掃描式光刻機(jī)項(xiàng)目，設(shè)備數(shù)量為一臺(tái)，成交金額1.1億元。

據(jù)了解，步進(jìn)掃描光刻是一種混合光刻技術(shù)，結(jié)合了掃描投影光刻和分步重復(fù)光刻的優(yōu)勢(shì)。該技術(shù)通過(guò)動(dòng)態(tài)掃描方式同步移動(dòng)掩膜版和晶圓，標(biāo)準(zhǔn)曝光尺寸為26mm×33mm，可增大曝光場(chǎng)并一次曝光多個(gè)芯片，其具備整個(gè)掃描過(guò)程的實(shí)時(shí)聚焦調(diào)節(jié)能力，適用于0.25μm以下的制造工藝，尤其在0.18μm節(jié)點(diǎn)及更先進(jìn)工藝中廣泛應(yīng)用。

根據(jù)企查查信息，《單一來(lái)源采購(gòu)專家論證意見(jiàn)表》顯示，招標(biāo)方為科學(xué)技術(shù)部的LGGJ實(shí)驗(yàn)室，項(xiàng)目金額11300萬(wàn)元。

專家認(rèn)證意見(jiàn)顯示，步進(jìn)掃描式光刻機(jī)具備高分辨率光學(xué)成像能力（分辨率≤110nm）和優(yōu)異的套刻精度（≤15nm），可支持微米乃至亞微米級(jí)結(jié)構(gòu)的高均勻性、高穩(wěn)定性加工。其采用的掃描式曝光方式在確保加工精度的同時(shí)，兼具高效率與大尺寸加工優(yōu)勢(shì)，工藝一致性和穩(wěn)定性突出，能夠充分滿足高密度神經(jīng)電極陣列對(duì)極細(xì)線寬和高對(duì)準(zhǔn)精度的苛刻工藝要求。

在半導(dǎo)體裝備領(lǐng)域，光刻機(jī)始終處于核心關(guān)鍵設(shè)備的地位。目前該市場(chǎng)長(zhǎng)期由ASML、尼康和佳能等國(guó)際廠商主導(dǎo)，其中先進(jìn)制程的光刻機(jī)甚至對(duì)國(guó)內(nèi)實(shí)行限購(gòu)政策，嚴(yán)重制約了我國(guó)半導(dǎo)體技術(shù)的自主發(fā)展。上海微電子作為國(guó)內(nèi)目前唯一具備先進(jìn)前道光刻機(jī)研發(fā)與制造能力的企業(yè)，其最新機(jī)型已可實(shí)現(xiàn)分辨率≤110nm、套刻精度≤15nm的性能指標(biāo)，成為國(guó)產(chǎn)高端光刻裝備的重要突破。

據(jù)企查查app，上海微電子由上海電氣控股集團(tuán)有限公司、張江高科（600895.SH）全資子公司上海張江浩成創(chuàng)業(yè)投資有限公司等共同持股。公司官網(wǎng)信息顯示，上海微電子主要致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售及技術(shù)服務(wù)。公司設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。根據(jù)上海微電子官網(wǎng)，公司主要光刻設(shè)備包括5款。